光刻机的制造难度主要在于三大关键设备：光源、双工件台、光刻机镜头。 而在光源方面，毫无疑问z国的世界最强的那个，这个结论从激光武器z国明显领先m国便能得出。 一个小小的光刻机光源，完全难不倒z国的科研人员。 双工件台就不太容易了，据说sm1研的基于磁悬浮平面电机的双工件台产品，其掩模台的运动控制精度做到了2纳米，大大提升了芯片加工的精度和效率。 如此先进的双工件台，外国专家曾傲慢地说：“全世界没有第二家机构能做出来。” 然而仅仅过去五年
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